Автоматическая система контроля

Автоматизация технологических процессов

Нанесение и сушка слоя фоторезиста

Нанесенный на предварительно подготовленную поверхность подложек слой фоторезиста должен быть однородным по толщине по всему их полю, без проколов, царапин (т.е. быть сплошным) и иметь хорошую адгезию.

Наносится слой фоторезиста на подложки в обеспыленной среде, соблюдая технологические режимы. Перед употреблением фоторезист необходимо профильтровать через специальные фильтры, а в особо ответственных случаях обработать на центрифуге при частоте вращения 10 - 20 тыс.об/мин в течение нескольких часов. Это делают для того, чтобы удалить из фоторезиста инородные микрочастицы размером менее 1 мкм, которые могут привести к браку фоторезистивного слоя. Кроме того необходимо проверить вязкость фоторезиста и довести его до нормы.

Для нанесения слоя фоторезиста на подложки используется метод центрифугирования.

Для окончательного удаления растворителя из слоя фоторезиста его просушивают. При этом уплотняется молекулярная структура слоя, уменьшаются внутренние напряжения и повышается адгезия к подложке. Неполное удаление растворителя из слоя фоторезиста снижает его кислотостойкость. Для удаления растворителя подложки нагревают до температуры, примерно равной 90 оС. Время сушки составляет 30 мин.

Температура и время сушки значительно влияют на такие важные параметры, как время их экспонирования и точность передачи размеров элементов после проявления. Большое значение при сушке имеет механизм подвода теплоты. Метод сушки - конвекционный.

Высушенный слой необходимо экспонировать не позднее чем через 10 ч. Сушку подложек следует выполнять в тщательно обеспыленной среде 10-го и

-го классов частоты. Контролируют качество сушки визуально или под микроскопом.

Другие статьи по теме

Диспетчерская централизация на базе комплекса технических средств Неман Диспетчерская централизация (ДЦ) - это комплекс устройств железнодорожной автоматики и телемеханики, состоящий из автоблокировки на перегонах, электрической централизации стрелок ...

Использование среды Cadence Virtuoso для проектирования интегральных микросхем Принятая на сегодняшний день модель развития промышленности предполагает широкую роботизацию‚ создание гибких автоматизированных производств и отводит особое место микроэлектронике как с ...

Исследование рабочих характеристик гидроакустической станции В настоящее время активно развивается использование подводных лодок для проведения туристических круизов. За 10 лет построено несколько сотен туристических подводных лодок (ТПЛ). Водоизм ...